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多晶硅基体金属杂质检测

电子级多晶硅金属杂质含量是评价其产品质量的重要指标之一,其杂质含量的高低直接影响下游晶圆制造产品质量,所以对其金属杂质含量的控制至关重要。莱伯泰科提供可靠、易用的 ICP-MS产品,拥有良好的精度,可实现多晶硅金属元素杂质准确分析,确保制造商始终能够生产出高品质的产品。
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